Як ми всі знаємо, у світі є лише один виробник, який може виробляти EUV-літографію, це нідерландська ASML.
І причина, чому єдиний у світі, полягає в тому, що ASML об’єднає багато ключових виробників, таких як німецька оптична компанія Zeiss (Zeiss), а потім американська Cymer, а потім німецька Tom Fast Group (TRUMPF). ) і так далі.
ASML прив’язала цих виробників до своєї колісниці через інвестиції, придбання, акціонування, заснування дослідницьких центрів тощо, і ці виробники, мабуть, єдині виробники у світі, які можуть виробляти цю продукцію, тому, зрештою, лише ASML може виробляти EUV літографію в світі.
Однак нещодавно ключовий ланцюжок постачання ASML побіг у Шеньчжень, Китай, щоб побудувати завод, а його дочірнє підприємство в Шеньчжені оселилося в китайсько-німецькому (Європа) промисловому демонстраційному парку Баоань.
Цим виробником є німецька Tom Fast Group (TRUMPF), це EUV літографія ASML, єдиний у світі постачальник лазерного джерела.
Наскільки важливі продукти TRUMPF у EUV-літографії? По-перше, дозвольте мені пояснити принцип EUV-літографії, ви зрозумієте.
Принцип EUV-літографії, простіше кажучи, зосереджений на трьох основних системах: система джерела ультрафіолетового світла EUV, система об’єктивів і система столу.
Конкретний процес полягає у використанні лазера для збудження екстремального ультрафіолетового світла довжиною хвилі 13,5 нм, а потім після корекції для формування контрольованого пучка світла, який потім проектується на стіл фотомаски, а потім проектується через об’єктив. дзеркало до столу експозиції та, нарешті, витравлювали схему на кремнієвій пластині, покритій фоторезистом.
Одну з систем джерел УФ-світла EUV отримують шляхом бомбардування краплі металу олова (Sn) СО2-лазером потужністю 30 кВт, випаровування його в плазму та, нарешті, отримання EUV-світла з довжиною хвилі 13,5 нм.
Цей CO2-лазер потужністю 30 кВт надає компанія TRUMPF, єдиний у своєму роді лазер у світі.
Не варто недооцінювати цей CO2-лазер, він складається з 457 329 частин, довжина кабелю в системі становить до 7322 метрів, а вага становить 17 090 кг, що є одним із найважливіших основних компонентів EUV-літографії.
Тепер TRUMPF побіг до Китаю, щоб побудувати фабрику, намір зрозумілий, тобто оптимістично налаштований щодо китайського лазерного ринку, і навіть більш довгостроковий погляд, оптимістично налаштований на китайському ринку літографії, майбутнє може співпрацювати з Китаєм для створення EUV літографії .
Насправді вже є більше ніж один ланцюжок постачання ASML, який йде до Китаю для будівництва заводу, перш ніж KMWE та інші виробники також відправляються в Китай для будівництва заводу.
Згідно з поточною тенденцією, ми можемо з оптимізмом очікувати, що невдовзі китайська технологія літографії стане великим кроком вперед, і навіть обсяг випуску EUV-літографії також можна очікувати, як ви думаєте?
